为加强校企合作，探索集成电路制造设备与等离子体技术方向研究相结合。三束材料改性教育部重点实验室主任赵纪军教授邀请沈阳拓荆科技有限公司总经理吕光泉博士带队到校交流，10月29日上午在多宝网页版,多宝（中国）官方425会议室进行了深入的交流。
赵纪军教授对实验室进行了介绍，首先介绍实验室的概况、科研队伍情况和实验室的定位为材料与等离子体物理的交叉学科。再展开讲解了实验室的学科构成与研究方向，从“三束”到“载能束”以及基于载能束的仪器研发与应用。又展示了实验室承担的科研项目概况、发表的SCI论文与专利的情况。最后介绍了成果转化与社会服务以及获奖情况，对沈阳拓荆的来访表示热烈欢迎，期待开展更深入的合作。
吕光泉博士详细的介绍了拓荆公司的各方面情况。首先对拓荆公司进行了简介，拓荆是由海外技术专家于2010年4月28日组建的高新技术企业，先后多次承担国家02重大专项；致力于研制极大规模集成电路行业专用薄膜设备，如PECVD和ALD设备；目前整机装备已达到国际先进水平，设备已经进入国际知名的半导体生产产线。然后双方围绕芯片制造技术中的基础问题进行了详细的探讨，探讨了未来的合作方向，研究生企业实习、博士后流动站的交流等。
讨论过后，王友年教授建议学校相关学科科研人员到拓荆进行实地考察对接，并且希望吕光泉博士多来学校，给研究生做报告，普及对极大规模集成电路生产过程中的科学知识，并对其中的关键技术和问题进行深入交流，以期共同进行技术攻关。由于拓荆企业研发过程中不仅涉及到等离子体物理学科，还涉及许多学科，如机械制造、自动化控制等，因此希望可以联合其他学科与拓荆进行校企深度合作。
